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高纯旋转铬靶的制作装置

实用新型有效专利
  • 申请号:
    CN201420335187.6
  • IPC分类号:B22F3/14C23C14/35
  • 申请日期:
    2014-06-20
  • 申请人:
    江阴恩特莱特镀膜科技有限公司
著录项信息
专利名称高纯旋转铬靶的制作装置
申请号CN201420335187.6申请日期2014-06-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B22F3/14IPC分类号B22F3/14;C23C14/35查看分类表>
申请人江阴恩特莱特镀膜科技有限公司申请人地址
江苏省无锡市江阴市金山路201号创智产业园能量岛B*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江阴恩特莱特镀膜科技有限公司当前权利人江阴恩特莱特镀膜科技有限公司
发明人胡习光;秦国强;常金永;张志祥
代理机构无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)代理人殷红梅;刘海
摘要
本实用新型涉及一种高纯旋转铬靶的制作装置,特征是:包括外套管和中空的衬管,外套管设置在衬管外围,在外套管和衬管之间形成圆环形空腔,该圆环形空腔的上下端分别采用端头圆环密封,在上部的端头圆环上设置灌粉管,灌粉管与圆环形空腔连通。所述衬管为中空结构。本实用新型所述的高纯旋转铬靶的制作装置可以采用整体成型的方式制作铬靶,通过热等静压加工,得到高纯度、高致密的铬靶材材料,并且铬靶材材料与衬管紧密的结合在一起。采用本实用新型可以保证铬层有很好的密度,较小的晶粒,并可避免铬层与衬管间由于应力过大而导致开裂。

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