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在多晶硅上具有平滑界面的集成电路

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN87102505.1
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1987-03-31
  • 申请人:
    得克萨斯仪器公司
著录项信息
专利名称在多晶硅上具有平滑界面的集成电路
申请号CN87102505.1申请日期1987-03-31
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人得克萨斯仪器公司申请人地址
美国得克萨斯75265达拉斯 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人得克萨斯仪器公司当前权利人得克萨斯仪器公司
发明人凯利帕特纳姆;维维克·罗
代理机构上海专利事务所代理人景星光
摘要
一种得到非常平滑的多晶硅1层/层间绝缘层/多晶硅2层的界面。本质上,多晶硅1层18是无定形相的LPCVD的沉积层和用注入掺杂的。这以后沉积一种适当的绝缘层20,接着多晶硅1层18在约1000℃温度下重结晶。然后,用LPCVD沉积多晶硅2层和在950℃温度下掺入POCl3,得到的多晶硅2/层间绝缘层/多晶硅1界面是一种原子范围的非常平滑的界面,甚至在其它器件制造的热循环以后也是如此,并且相信将导至优良的漏泄特性。

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