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一种高密度等离子体增强化学气相沉积设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610957838.9
  • IPC分类号:C23C16/50
  • 申请日期:
    2016-10-27
  • 申请人:
    合肥优亿科机电科技有限公司
著录项信息
专利名称一种高密度等离子体增强化学气相沉积设备
申请号CN201610957838.9申请日期2016-10-27
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2017-04-05公开/公告号CN106555175A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/50IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;5;0查看分类表>
申请人合肥优亿科机电科技有限公司申请人地址
安徽省合肥市高新区天达路2号安徽大学科技园内创新楼405 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人合肥优亿科机电科技有限公司当前权利人合肥优亿科机电科技有限公司
发明人滕海燕
代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙)代理人娄岳;金凯
摘要
本发明提供一种高密度等离子体增强化学气相沉积设备,包括真空室以及置于真空室进气端的高密度等离子体源和置于真空室抽气端的用于放置样品的沉积底座,所述高密度等离子体源包括加热丝、热阴极发射源片以及布置在加热丝和热阴极发射源片外围的屏蔽结构,该高密度等离子体源激发出弧光放电等离子体,对沉积底座上的样品进行固体薄膜的沉积;所述沉积底座包括可旋转的基座、置于基座上的衬底以及置于基座下端的恒温控制模块。本发明所阐述的等离子体密度比市面上现有的辉光放电等离子体提高10~100倍,应用于化学气相沉积固体薄膜时生产效率会提高10~100倍,而且等离子体温度高,膜层的附着力强,膜组织致密,膜的厚度及成分均匀性好。

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