一种高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版及其生产方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202111040770.5
IPC分类号：G03F1/00;G03F1/62;G03F1/68;C23C14/06;C23C14/35
申请日期：
2021-09-07
申请人：
东莞市宏诚光学制品有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版及其生产方法
申请号	CN202111040770.5	申请日期	2021-09-07
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-05	公开/公告号	CN113608405A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;6;2;;;G;0;3;F;1;/;6;8;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5查看分类表>
申请人	东莞市宏诚光学制品有限公司	申请人地址	广东省东莞市茶山镇黄岭路62号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东莞市宏诚光学制品有限公司	当前权利人	东莞市宏诚光学制品有限公司
发明人	李由根;李娜;萧训山;刘丹;吴婷
代理机构	东莞卓为知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	齐海迪

摘要

本发明公开了一种高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版，该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版从上至下依次包括铬氮氧化物低反射膜层、铬氮化物遮光膜层、铬氮氧化物防凹陷膜层以及玻璃基片。该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版的生产方法主要为提供一个Cr靶材，通过通入气体以形成所需的膜层，经过实际检测可得出：使得该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版具有高精度的光学物性，且该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版的靶向及行车方向均达到高均匀性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供