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一种基底支撑机构以及一种曝光装置

实用新型有效专利
  • 申请号:
    CN201821040778.5
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-06-29
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称一种基底支撑机构以及一种曝光装置
申请号CN201821040778.5申请日期2018-06-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G03F7/20查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区张东路15*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人王春兰;赵灿武
代理机构上海思捷知识产权代理有限公司代理人王宏婧
摘要
本实用新型提供一种基底支撑机构以及一种曝光装置,所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块,所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间,所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相边的端面。所述曝光装置在对基底背面进行曝光时所述支撑面对基底起到稳固支撑的作用,而又由于所述端面的所述倾斜面的存在,使得所述端面阴影对基底的影响很小甚至忽略不计,从而使得基底背面整个图形区域曝光。另外,所述定位块具有一导向面,所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜,所述通过所述导向面可以使在放置过程中的基底能由于自身重力下滑而复位。

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