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一种化学机械抛光的在线监测装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202211239231.9
  • IPC分类号:G01N21/25;G01N21/01;B24B37/013
  • 申请日期:
    2022-10-11
  • 申请人:
    杭州众硅电子科技有限公司
著录项信息
专利名称一种化学机械抛光的在线监测装置
申请号CN202211239231.9申请日期2022-10-11
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2022-11-08公开/公告号CN115308140A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N21/25IPC分类号G;0;1;N;2;1;/;2;5;;;G;0;1;N;2;1;/;0;1;;;B;2;4;B;3;7;/;0;1;3查看分类表>
申请人杭州众硅电子科技有限公司申请人地址
浙江省杭州市临安区青山湖街道创业街88号1幢一层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州众硅电子科技有限公司当前权利人杭州众硅电子科技有限公司
发明人杨哲;周远鹏
代理机构杭州凯知专利代理事务所(普通合伙)代理人邵志
摘要
本发明公开了一种化学机械抛光的在线监测装置,设于抛光盘内,可随抛光盘转动;其包括光源;光学镜组,用于接收光源发出的光束,产生准直光束;光路转折单元,用于接收准直光束,将其形成入射光路,入射光路透过抛光盘的通光窗口,照射至抛光盘上的晶圆表面,晶圆表面将入射光路反射后经过光路转折单元形成出射光路;探测器,用于接收出射光路,以获取对应的光谱信息,确定晶圆抛光的终点。本发明采用光学镜组缩束准直的方式耦合光源,解决了传统光纤耦合导致的光源光强利用率低的问题;采用信号控制方式调节光源并实时监测光强,保证测量信号的稳定性,提升探测精度,延长光源的使用寿命。

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