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基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201380066736.2
  • IPC分类号:G03F7/24H01L21/027
  • 申请日期:
    2013-11-29
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法
申请号CN201380066736.2申请日期2013-11-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-08-26公开/公告号CN104871091A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/24IPC分类号G03F7/24;H01L21/027查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人加藤正纪
代理机构北京市金杜律师事务所代理人陈伟;王娟娟
摘要
具有:投影光学系统(PL),使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像,使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像;光量减少部,将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少,投影光学系统(PL)具有:部分光学系统(61),使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7);反射光学系统(62),将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7),且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61),部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光(EL2b)再成像并在基板(P)上形成投影像。

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