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等离子体处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010580611.X
  • IPC分类号:C23C16/50
  • 申请日期:
    2010-12-09
  • 申请人:
    财团法人工业技术研究院
著录项信息
专利名称等离子体处理装置
申请号CN201010580611.X申请日期2010-12-09
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2012-05-30公开/公告号CN102477547A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/50IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;5;0查看分类表>
申请人财团法人工业技术研究院申请人地址
中国台湾新竹县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人财团法人工业技术研究院当前权利人财团法人工业技术研究院
发明人吴佩珊;董福庆;何荣振;沈添沐;陈家铭
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陈小雯
摘要
本发明公开一种等离子体处理装置,其包含一阴极组件、一阳极、一连接高频电源的电极与多个第二通道;该阳极具有一中空腔室以容置该阴极组件;该电极连接该阴极组件;该阴极组件包括多个第一通道,该阳极相对于多个第一通道具有至少一个输出孔;多个第二通道穿设过阳极,该多个第一通道与该多个第二通道穿插设置。一第一气体由等离子体处理装置外部进入每一第一通道,通过高频电源进行碰撞解离反应并生成等离子体;在每一第一通道产生的等离子体会经由输出孔流出,形成一等离子体扩散区;一第二气体由等离子体处理装置外部进入每一第二通道,输出至等离子体扩散区。

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