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光学装置和相关方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201780077291.6
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B26/08
  • 申请日期:
    2017-11-16
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光学装置和相关方法
申请号CN201780077291.6申请日期2017-11-16
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-08-02公开/公告号CN110088684A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;2;6;/;0;8查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人S·S·R·奥马罗辛哈;A·J·布里克;A·M·斯卓克肯;恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;B·P·范德利恩胡森
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王静
摘要
对准系统将激光束与参考平面中的期望位置和参考平面中的期望方向对准。该系统将激光衍射成不同的衍射级,使用不同的透镜将不同的衍射级投影到检测平面上。由于不同的衍射级在检测平面中的投影的部位对束在参考平面中的位置和方向的变化做出不同的响应,因此投影的部位使得能够确定如何调节束以便使束正确地对准。衍射和投影可以通过全息图实现。

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