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制造表面改性的聚合物膜的方法以及制作包含该表面改性的聚合物膜的有机电子器件的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811516078.3
  • IPC分类号:C08J7/12;C08J7/14;C08L11/00;H01L51/05;H01L51/40
  • 申请日期:
    2018-12-12
  • 申请人:
    纳米基盘柔软电子素子研究团;浦项工科大学校产学协力团
著录项信息
专利名称制造表面改性的聚合物膜的方法以及制作包含该表面改性的聚合物膜的有机电子器件的方法
申请号CN201811516078.3申请日期2018-12-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-07-19公开/公告号CN110028691A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08J7/12IPC分类号C;0;8;J;7;/;1;2;;;C;0;8;J;7;/;1;4;;;C;0;8;L;1;1;/;0;0;;;H;0;1;L;5;1;/;0;5;;;H;0;1;L;5;1;/;4;0查看分类表>
申请人纳米基盘柔软电子素子研究团;浦项工科大学校产学协力团申请人地址
韩国庆尚北道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人纳米基盘柔软电子素子研究团,浦项工科大学校产学协力团当前权利人纳米基盘柔软电子素子研究团,浦项工科大学校产学协力团
发明人赵吉元;金镇成;姜普锡
代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司代理人王芬;杨国强
摘要
公开了一种制造表面改性的聚合物膜的方法,所述方法包括通过在具有光致酸产生剂的情况下使聚合物膜经受光照射和表面处理,在所述聚合物膜的表面上形成羟基基团(‑OH)。使用光致酸产生剂可将羟基基团(‑OH)引入聚合物膜,从而在不损害所述聚合物膜的情况下对该聚合物膜的表面进行改性。此外,能够使包含该表面改性的聚合物膜的有机电子器件在电特性和稳定性方面得到改善。

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