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含有乙烯基醚化合物的形成防反射膜的组合物

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580015398.5
  • IPC分类号:G03F7/11;G03F7/20;G03F7/38;H01L21/027
  • 申请日期:
    2005-05-11
  • 申请人:
    日产化学工业株式会社
著录项信息
专利名称含有乙烯基醚化合物的形成防反射膜的组合物
申请号CN200580015398.5申请日期2005-05-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-04-25公开/公告号CN1954265
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/11IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;1;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;3;8;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人日产化学工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日产化学工业株式会社当前权利人日产化学工业株式会社
发明人畑中真;木村茂雄;榎本智之
代理机构北京市中咨律师事务所代理人段承恩;田欣
摘要
本发明的课题在于提供一种形成防反射膜的组合物,其用于形成在半导体器件制造的光刻工序中使用的、可通过光致抗蚀剂用碱性显影液进行显影的防反射膜,还提供一种使用该形成防反射膜的组合物的光致抗蚀剂图案的形成方法。本发明通过提供下述组合物解决了上述课题,即,一种形成防反射膜的组合物,其包含:具有至少2个乙烯基醚基的化合物、具有至少2个酚性羟基或羧基的碱可溶性化合物、光酸发生剂和溶剂。

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