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一种制备非晶钻石膜的装置和方法、一种非晶钻石膜及其复合涂层

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010674041.4
  • IPC分类号:C23C14/06;C23C14/02;C23C14/32;C23C14/35
  • 申请日期:
    2020-07-14
  • 申请人:
    佛山耐信涂层技术有限公司
著录项信息
专利名称一种制备非晶钻石膜的装置和方法、一种非晶钻石膜及其复合涂层
申请号CN202010674041.4申请日期2020-07-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-10-13公开/公告号CN111763910A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/06IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2;;;C;2;3;C;1;4;/;3;2;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5查看分类表>
申请人佛山耐信涂层技术有限公司申请人地址
广东省佛山市顺德区杏坛镇顺业东路33号盛越园5栋2梯101 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佛山耐信涂层技术有限公司当前权利人佛山耐信涂层技术有限公司
发明人李标章;黄裕祥
代理机构北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司代理人李正
摘要
本发明提供了一种制备非晶钻石膜的装置和方法、一种非晶钻石膜及其复合涂层,属于固体材料表面改性处理技术领域。本发明提供的制备非晶钻石膜的装置包括起弧装置、中空过滤弯管6和真空镀膜腔体11。本发明通过在起弧装置的环形阳极3上加负极偏压,能够将阴极石墨靶材1产生的碳离子进行加速,从而提升碳离子的能量;通过设置中空过滤弯管6,使电弧放电时产生的石墨颗粒沉积在中空过滤弯管6中,避免石墨颗粒进入真空镀膜腔体11,对镀膜的质量造成影响;通过在中空过滤弯管6的最大弯折处设置偏转磁场9,能够协助碳离子作大角度偏转,从而降低线圈8电流消耗的电量;同时,偏转磁场9能够提高碳离子的偏转效率,从而提高镀膜的效率。

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