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一种光刻机预对准系统校准工具

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201620938203.X
  • IPC分类号:G03F9/00
  • 申请日期:
    2016-08-25
  • 申请人:
    成都海威华芯科技有限公司
著录项信息
专利名称一种光刻机预对准系统校准工具
申请号CN201620938203.X申请日期2016-08-25
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F9/00IPC分类号G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人成都海威华芯科技有限公司申请人地址
四川省成都市双流县西南航空港经济开发区物联网产业园内 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人成都海威华芯科技有限公司当前权利人成都海威华芯科技有限公司
发明人牟宏惺
代理机构成都华风专利事务所(普通合伙)代理人徐丰;胡川
摘要
本实用新型涉及了一种光刻机预对准系统校准工具,包括圆形金属薄片,所述圆形金属薄片边沿均匀开设4个缺口,所述缺口为V型,且缺口的顶角指向圆心,所述圆形金属薄片的直径不大于6寸,所述圆形金属薄片厚度为630~700 um,翘曲度小于20um,所述缺口开口大小1~2mm。本实用新型的有益效果是:采用价格便宜的金属薄片取代成本昂贵的易坏易碎的硅片或者砷化镓晶圆,有效的降低成本,达到不易损坏的效果;设有4个缺口,能够达到高的预对准测量精度,精确确定晶圆中心位置;本产品价格便宜,实用性强,易于推广使用,促进行业发展。

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