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用于均匀性控制的射频返回带的调控方法与设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200980148849.0
  • IPC分类号:H01L21/205;H05H1/36
  • 申请日期:
    2009-11-30
  • 申请人:
    应用材料股份有限公司
著录项信息
专利名称用于均匀性控制的射频返回带的调控方法与设备
申请号CN200980148849.0申请日期2009-11-30
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2011-11-09公开/公告号CN102239542A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/205IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;0;5;;;H;0;5;H;1;/;3;6查看分类表>
申请人应用材料股份有限公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料股份有限公司当前权利人应用材料股份有限公司
发明人艾伦·曹;丹尼尔·J·霍夫曼;励(汤姆)·田中;威廉·尼克松·小泰勒;王荣平;约翰·M·怀特
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国;钟强
摘要
本发明的实施例一般关于一种用于使用等离子体处理基板的方法与设备。更特定而言,本发明的实施例提供一种等离子体处理腔室,其具有一耦接至多个RF返回带的电极,其中该多个RF返回带的阻抗经设定及/或调整以于处理期间调控等离子体分布。一实施例中,RF返回带的阻抗藉由改变该多个RF返回带的长度、藉由改变该多个RF返回带的宽度、藉由改变该多个RF返回带的间隔、藉由改变该多个RF返回带的位置、藉由增加该多个RF返回带的电容或藉由其组合而变化。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供