一种纳米光栅的制作方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010143946.5
IPC分类号：G02B5/18;G01Q60/10
申请日期：
2010-04-09
申请人：
重庆理工大学

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种纳米光栅的制作方法
申请号	CN201010143946.5	申请日期	2010-04-09
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2010-09-29	公开/公告号	CN101846760A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/18 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/18 衍射光栅	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;1;8;;;G;0;1;Q;6;0;/;1;0查看分类表>
申请人	重庆理工大学	申请人地址	重庆市巴南区李家沱红光大道69号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	重庆理工大学	当前权利人	重庆理工大学
发明人	罗静;王春欢;张微;詹捷
代理机构	重庆博凯知识产权代理有限公司	代理人	李晓兵

摘要

本发明公开了纳米光栅的制作方法，在光学玻璃表面上镀一层导电薄膜，构成光栅基体，薄膜厚度范围为30nm～90nm；将光栅基体固定在纳米进给工作台上，用扫描隧道显微测量装置在受控状态下带动探针沿Y轴方向运动，扫描隧道显微测量装置的脉冲电压发生器产生脉冲电压，经执行器施加在探针上，对光栅基体进行刻线加工；当一条栅线的刻线加工完成后，光栅基体向X轴方向移动量为10nm～80nm，重复前述刻线加工过程，在光学玻璃表面上制得纳米光栅。本发明采用STM纳米加工技术及STM电子束光刻技术制作具有纳米级线宽的光栅，实现光栅的纳米测量；由于探针与抗蚀膜的距离只有几纳米，加上探针尖端的直径很小，只有一个至数个原子，所以曝光只需通过与一次电子束的相互作用就可产生，克服了二次电子与背散射电子相互作用引起的分辨率降低的缺点，能获得更精细的20mm宽的线条。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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