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具有掩埋栅的半导体器件及其制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110044421.0
IPC分类号：H01L23/52;H01L21/768
申请日期：
2011-02-24
申请人：
海力士半导体有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	具有掩埋栅的半导体器件及其制造方法
申请号	CN201110044421.0	申请日期	2011-02-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-07-11	公开/公告号	CN102569248A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L23/52 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L23/00 半导体或其他固态器件的零部件（H01L 25/00优先）〔2，5〕 H01L23/52 用于在处于工作中的器件内部从一个组件向另一个组件通电的装置〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;3;/;5;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人	海力士半导体有限公司	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	海力士半导体有限公司	当前权利人	海力士半导体有限公司
发明人	辛锺汉;朴宝旻
代理机构	北京弘权知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	郭放;张文

摘要

本发明涉及一种半导体器件，包括：掩埋栅，所述掩埋栅形成在衬底之上；存储节点接触插塞，所述存储节点接触插塞形成在衬底之上并包括柱图案和布置在柱图案之上的线图案；以及位线结构，所述位线结构形成在衬底之上并使存储节点接触插塞中相邻的存储节点接触插塞彼此隔离。

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