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光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610101495.2
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/00
申请日期：
2006-07-10
申请人：
ASML荷兰有限公司

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法
申请号	CN200610101495.2	申请日期	2006-07-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-01-17	公开/公告号	CN1896876
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	W·P·德博伊杰;C·瓦格纳
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

一种光刻装置，其包括照明系统，该照明系统具有多个光学元件，其能够调节辐射光束从而在横截面中包括线偏振辐射的第一部分以及非偏振或圆偏振辐射的第二部分。该装置进一步包括构造为支承构图部件的支架，构图部件能够给照明辐射光束的横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束。提供一基底台来保持基底，同时提供投影系统，并将其配置为将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。

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