导电膜配线的形成方法、膜结构体、电光学装置以及电子仪器

发明专利有效专利

申请号：
CN03122526.8
IPC分类号：G02F1/133;H05K3/14
申请日期：
2003-04-18
申请人：
精工爱普生株式会社;爱发科股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	导电膜配线的形成方法、膜结构体、电光学装置以及电子仪器
申请号	CN03122526.8	申请日期	2003-04-18
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2003-11-05	公开/公告号	CN1453608
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/133 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;;;H;0;5;K;3;/;1;4查看分类表>
申请人	精工爱普生株式会社;爱发科股份有限公司	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	精工爱普生株式会社,爱发科股份有限公司	当前权利人	精工爱普生株式会社,爱发科股份有限公司
发明人	古沢昌宏;平井利充;小田正明;岩重央
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李香兰

摘要

一种导电膜配线的形成方法，通过液体喷出机构(10)将含有金属微粒的第1液体材料配置在基板(11)上，并在基板上形成所定图案的导电膜配线时，在些之前预先将基板(11)的表面针对于液体材料控制成疏液性，同时通过液体喷出机构(10)将不同于第1液体材料的第2液体材料配置在基板(11)上，形成提高对基板(11)的导电膜配线的密接力的中间层W1。根据这种构成，本发明可以提供可实现导电膜配线的细线化的同时可提高对于基板的导电膜配线的密接力的导电膜配线的形成方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供