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基板处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710820931.X
  • IPC分类号:H01L21/205
  • 申请日期:
    2017-09-13
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置
申请号CN201710820931.X申请日期2017-09-13
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2018-03-20公开/公告号CN107815667A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/205IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;0;5查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人福岛讲平;似鸟弘弥
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;张会华
摘要
本发明提供一种能够控制面间均匀性的基板处理装置。一实施方式的基板处理装置具有:内管,其收容多张基板;外管,其包围所述内管;可动壁,其设置成能够在所述内管的内部或所述内管与所述外管之间移动;气体供给部件,其向所述基板供给处理气体;以及排气部件,其对向所述基板供给的所述处理气体进行排气,在所述内管的侧壁形成有第1开口部,在所述可动壁形成有第2开口部,所述排气部件经由所述第1开口部和所述第2开口部对向所述基板供给的所述处理气体进行排气。

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