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一种光源系统和投影显示系统

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202021122549.5
  • IPC分类号:G03B21/20
  • 申请日期:
    2020-06-17
  • 申请人:
    北京镭创高科光电科技有限公司
著录项信息
专利名称一种光源系统和投影显示系统
申请号CN202021122549.5申请日期2020-06-17
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03B21/20IPC分类号G;0;3;B;2;1;/;2;0查看分类表>
申请人北京镭创高科光电科技有限公司申请人地址
江苏省苏州市高新区五台山路588号科技城工业坊C区1号楼401室,402室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏镭创高科光电科技有限公司当前权利人江苏镭创高科光电科技有限公司
发明人高文宏;刘灵芝
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
本实用新型提供了一种光源系统和投影显示系统,包括激光器件、静态荧光器件以及位于所述激光器件和所述静态荧光器件之间的匀光器件;所述激光器件用于发射激光;所述静态荧光器件包括静态荧光体,所述静态荧光体在所述激光的激发下出射荧光;所述匀光器件用于对所述激光器件出射的激光进行匀光。通过匀光器件对所述激光器件出射的激光进行匀光,可以使所述激光均匀地照射到所述静态荧光体上,激发出均匀的荧光,即,使得荧光光斑中心亮度和边缘亮度相同或接近,有效解决了激光激发出的荧光中心亮度和边缘亮度不一致的问题。

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