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一种高纯锗烷的纯化生产工艺及其生产系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010760970.7
  • IPC分类号:C01B6/06;B01D53/78;B01D53/62;B01D53/26;B01D53/02;B01D53/00
  • 申请日期:
    2020-07-31
  • 申请人:
    江西华特电子化学品有限公司
著录项信息
专利名称一种高纯锗烷的纯化生产工艺及其生产系统
申请号CN202010760970.7申请日期2020-07-31
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-16公开/公告号CN111777040A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B6/06IPC分类号C;0;1;B;6;/;0;6;;;B;0;1;D;5;3;/;7;8;;;B;0;1;D;5;3;/;6;2;;;B;0;1;D;5;3;/;2;6;;;B;0;1;D;5;3;/;0;2;;;B;0;1;D;5;3;/;0;0查看分类表>
申请人江西华特电子化学品有限公司申请人地址
江西省九江市永修县经济开发区星火工业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江西华特电子化学品有限公司当前权利人江西华特电子化学品有限公司
发明人曹小林;裴友宏;何西;程紧
代理机构佛山市禾才知识产权代理有限公司代理人朱培祺;单蕴倩
摘要
一种高纯锗烷的纯化生产工艺及其生产系统,纯化生产工艺包括以下步骤:对吸附器填装吸附剂;配置碱性液体通入碱洗器;用氦气抽空置换多个系统容器和管道,并活化吸附器;将冷凝器和冷阱预冷冻;将锗烷粗品脱除二氧化碳杂质;锗烷粗品脱除水分;锗烷粗品进入吸附器中深度脱除杂质;锗烷粗品在冷阱中分离锗烷和氢气;锗烷粗品冷阱内深度脱除杂质;收集得到高纯锗烷。纯化生产系统,包括:锗烷生产系统和锗烷纯化系统;锗烷纯化系统包括:碱洗器、冷凝器、1#吸附器、2#吸附器和冷阱;本方案一种高纯锗烷的纯化生产工艺,其方法简单和易于操作,能制备高纯度5.5N锗烷,克服了现有技术中制备高纯度锗烷需要投资大、效率低和纯度低等技术问题。

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