一种图案化石墨烯及其制备方法和用途

发明专利有效专利

申请号：
CN201510489098.6
IPC分类号：C30B23/04
申请日期：
2015-08-11
申请人：
国家纳米科学中心

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专利名称	一种图案化石墨烯及其制备方法和用途
申请号	CN201510489098.6	申请日期	2015-08-11
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-11-11	公开/公告号	CN105040095A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C30B23/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C30 晶体生长〔3〕 C30B 单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置〔3〕 C30B23/00 冷凝气化物或材料挥发法的单晶生长〔3〕 C30B23/02 外延层生长〔3〕 C30B23/04 图案沉积，如使用掩模的〔3〕	IPC分类号	C;3;0;B;2;3;/;0;4查看分类表>
申请人	国家纳米科学中心	申请人地址	北京市海淀区中关村北一条11号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	国家纳米科学中心	当前权利人	国家纳米科学中心
发明人	方英;李昕明;李莉;杜明德
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	巩克栋;侯桂丽

摘要

本发明提供了一种图案化石墨烯及其制备方法和用途，所述图案化石墨烯的制备方法为：在铜箔表面形成由石墨片组成的目标图案，之后，以石墨片为碳源加热生长得到具有目标图案的石墨烯。本发明提供的图案化石墨烯的制备方法以石墨片为碳源，以铜箔为催化剂，可预先控制所要制备的石墨烯的图案形状，有效地解决了后续微纳加工程序复杂的问题及在柔性基底上加工制备石墨烯器件的难题，提供了工业化制备大面积复杂结构石墨烯的可能性；并且碳源的利用率高，操作简单，制备效率高；制得的图案化石墨烯质量高，石墨烯无损伤，应用广泛。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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