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光罩

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201720768783.7
  • IPC分类号:G03F1/38
  • 申请日期:
    2017-06-28
  • 申请人:
    扬州扬杰电子科技股份有限公司
著录项信息
专利名称光罩
申请号CN201720768783.7申请日期2017-06-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F1/38IPC分类号G;0;3;F;1;/;3;8查看分类表>
申请人扬州扬杰电子科技股份有限公司申请人地址
江苏省扬州市平山堂北路江阳创业园三期 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人扬州扬杰电子科技股份有限公司当前权利人扬州扬杰电子科技股份有限公司
发明人谢生林;王毅
代理机构扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙)代理人周全
摘要
光罩。涉及半导体领域,具体涉及一种晶片生产中使用的光罩。该光罩可防止光刻胶内缩堆积、影响晶片的外观,其包括基板和设在基板上的、由光阻层构成的图案,所述基板上、所述图案的周围设有一条闭环的蚀刻槽。所述蚀刻槽的截面为U型。所述蚀刻槽内设有圆环型的弹性挡板和弹性密封膜,所述弹性挡板通过若干与蚀刻槽的槽底平行的连接杆连接在蚀刻槽的外侧壁上,所述连接杆伸出基板;通过在光罩板外圈增加一条蚀刻槽,使光阻胶涂布晶片在旋转停止时蚀刻槽有一定距离缓冲,最终使到晶粒台面的光阻胶积累量变少,达到晶片台面光阻胶减薄的目的,改善晶片了外观,节省了人工工时,提升了产出率。

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