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用于光刻设备的真空声噪隔离系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201310334088.6
IPC分类号：G03F7/20
申请日期：
2013-08-02
申请人：
上海微电子装备有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于光刻设备的真空声噪隔离系统
申请号	CN201310334088.6	申请日期	2013-08-02
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-02-11	公开/公告号	CN104345575A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	吴飞;钟亮;彭巍;王茜;俞芸;王璟
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	屈蘅

摘要

本发明提供一种用于光刻设备的真空声噪隔离系统，其特征在于，包括：一真空腔体，该真空腔体内至少包括该光刻设备的掩模、投影物镜及工件；一真空执行装置，用于对该真空腔体进行抽气；一真空检测装置，用于实时监控该真空腔的真空度；一形状记忆合金金属密封圈，用于密封该真空腔体。

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