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PbS量子点Si-APD红外探测器及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910669611.8
  • IPC分类号:H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/107;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2019-07-24
  • 申请人:
    中国科学院重庆绿色智能技术研究院
著录项信息
专利名称PbS量子点Si-APD红外探测器及其制备方法
申请号CN201910669611.8申请日期2019-07-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-10-18公开/公告号CN110350045A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0352IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;3;5;2;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;2;;;H;0;1;L;3;1;/;1;0;7;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;B;8;2;Y;3;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学院重庆绿色智能技术研究院申请人地址
重庆市北碚区方正大道266号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院重庆绿色智能技术研究院当前权利人中国科学院重庆绿色智能技术研究院
发明人陆文强;张昆;付勰;康帅;冯双龙
代理机构北京申翔知识产权代理有限公司代理人艾晶
摘要
本发明提出一种PbS量子点Si‑APD红外探测器及其制备方法,所述探测器包括本征Si衬底(1)、减反膜区(4)、N+掺杂区(3)、P掺杂区(2)、P+掺杂区(6)、PbS量子点层(7)、上电极(5)和下电极(8),减反膜区(4)位于本征Si衬底(1)正上方、N+掺杂区(3)位于反射区(4)下方、P掺杂区(2)位于N+掺杂区(3)下方、P+掺杂区(6)位于本征Si衬底(1)下方、PbS量子点层(7)位于P+掺杂区(6)下方、上电极(5)位于反射区(4)上表面,以及下电极(8)位于PbS量子点层(6)下表面。本发明以PbS量子点层作为吸收层,采用纯电子注入的方式,使得本发明能够吸收近红外波段光波,具有光谱响应宽,响应度高,过噪声小,成本低,易于加工等优点。

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