首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

一种光刻胶清洗剂

发明专利无效专利

申请号：
CN200880103488.3
IPC分类号：G03F7/42;H01L21/02;C23G1/06
申请日期：
2008-08-08
申请人：
安集微电子（上海）有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种光刻胶清洗剂
申请号	CN200880103488.3	申请日期	2008-08-08
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2011-02-09	公开/公告号	CN101971103A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/42 剥离或剥离剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;C;2;3;G;1;/;0;6查看分类表>
申请人	安集微电子（上海）有限公司	申请人地址	中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	安集微电子（上海）有限公司	当前权利人	安集微电子（上海）有限公司
发明人	刘兵;彭洪修;史永涛
代理机构	上海翰鸿律师事务所	代理人	李佳铭

摘要

一种光刻胶清洗剂，其含有：氢氧化钾、二甲基亚砜、季戊四醇和醇胺。该光刻胶清洗剂可有效除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶和其它残留物，同时对于Cu(铜)等金属具有较低的蚀刻速率。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供