基板的处理设备，尤指基板的电镀设备

发明专利无效专利

申请号：
CN200680028223.2
IPC分类号：C25D7/06;C25D17/00
申请日期：
2006-08-03
申请人：
吉布尔·施密德有限责任公司

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著录项信息

专利名称	基板的处理设备，尤指基板的电镀设备
申请号	CN200680028223.2	申请日期	2006-08-03
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-11-19	公开/公告号	CN101310046
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25D7/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25D 覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸（印刷电路的金属沉积法制造入H05K 3/18）；工件的电解法接合；所用的装置（阳极或阴极保护入 C23F13/00；单晶生长入C30B）〔2，6〕 C25D7/00 以施镀制品为特征的电镀〔2〕 C25D7/06 丝；带；箔〔2〕	IPC分类号	C;2;5;D;7;/;0;6;;;C;2;5;D;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人	吉布尔·施密德有限责任公司	申请人地址	德国弗罗伊登斯塔特变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	吉布尔·施密德有限责任公司	当前权利人	吉布尔·施密德有限责任公司
发明人	H·卡普勒
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	曹若

摘要

电镀设备(11)的接触装置具有带一个连续的刚性外侧(26，27)的接触辊(20)，该刚性外侧与一套筒段(22)连接。套筒段(22)具有一个比旋转轴(30)大的内孔(23)，接触辊支承在该轴上。所以接触辊(20)在径向内一定的活动性，并通过弹簧(32)实现电接触和基本位置的锁定。通过这种活动性，保证了用相当小的压紧力即可达到在基板上的良好接触，即使基板存在不平度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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