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将贯穿基板通孔集成到集成电路的中段工序层中

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201380005315.9
  • IPC分类号:H01L21/768;H01L23/48
  • 申请日期:
    2013-01-12
  • 申请人:
    高通股份有限公司
著录项信息
专利名称将贯穿基板通孔集成到集成电路的中段工序层中
申请号CN201380005315.9申请日期2013-01-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-09-24公开/公告号CN104067383A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/768IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8查看分类表>
申请人高通股份有限公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人高通股份有限公司当前权利人高通股份有限公司
发明人V·拉马钱德兰;S·顾
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人杨丽
摘要
一种具有集成式贯穿基板通孔(TSV)的半导体晶圆。该半导体晶圆包括基板(102)。介电层(106)可在该基板的第一侧上形成。贯穿基板通孔可延伸穿过该介电层和该基板。该贯穿基板通孔可包括导电材料和隔离层(140)。该隔离层可至少部分地围绕该导电材料。该隔离层可具有楔形部分(142)。

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