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射频磁控溅射对靶装置

实用新型无效专利

申请号：
CN98238805.5
IPC分类号：--
申请日期：
1998-09-14
申请人：
中国科学院沈阳科学仪器研制中心

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	射频磁控溅射对靶装置
申请号	CN98238805.5	申请日期	1998-09-14
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国科学院沈阳科学仪器研制中心	申请人地址	辽宁省沈阳市和平区三好街*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院沈阳科学仪器研制中心	当前权利人	中国科学院沈阳科学仪器研制中心
发明人	黄文符;张振厚
代理机构	中国科学院沈阳专利事务所	代理人	朱光林

摘要

本装置属于一种镀膜装置，其结构是该镀膜装置为对称结构，上下两靶结构相同，每个靶的结构是外面为屏蔽层，中心为冷却水管，水管外为磁屏蔽层，磁屏蔽层外为靶体，靶体下面相对装有磁块，屏蔽层相对处形成开口，对靶中间的金属材料进行镀膜。优点：结构简单，因对靶对结构形式，溅射速率快，镀膜均匀质量好，适合对各种金属材料或非金属材料上的镀膜使用。

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