一种发光二极管及制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201711241467.5
IPC分类号：H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00
申请日期：
2017-11-30
申请人：
华灿光电（浙江）有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种发光二极管及制备方法
申请号	CN201711241467.5	申请日期	2017-11-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-06-19	公开/公告号	CN108183157A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L33/44 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L33/00 至少有一个电位跃变势垒或表面势垒的专门适用于光发射的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备；这些半导体器件的零部件（H01L 51/00优先；由在一个公共衬底中或其上形成有多个半导体组件并包括具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，专门适用于光发射的器件入H01L 27/15；半导体激光器入H01S 5/00）〔2，8，2010.01〕 H01L33/44 以涂层为特征的，例如钝化层或防反射涂层〔2010.01〕	IPC分类号	H;0;1;L;3;3;/;4;4;;;H;0;1;L;3;3;/;4;6;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人	华灿光电（浙江）有限公司	申请人地址	浙江省金华市义乌市苏溪镇徐丰村（浙江四达工具有限公司内）变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	华灿光电（浙江）有限公司	当前权利人	华灿光电（浙江）有限公司
发明人	韩涛;张威;王江波
代理机构	北京三高永信知识产权代理有限责任公司	代理人	徐立

摘要

本发明公开了一种发光二极管及制备方法，属于光电子制造技术领域。本发明包括衬底、n型GaN层、有源层、p型GaN层、透明导电层、p电极、n电极、钝化层、布拉格反射层，透明导电层层叠在p型GaN层上，p电极设置在透明导电层上，钝化层在以上结构与衬底相反的表面外露处，布拉格反射层在钝化层之上，通过将钝化层设置为第一折射率层、第二折射率层、第三折射率层，第二折射率层包括多个凸透镜单元，并且第二折射率层的折射率大于第一折射率层与第三折射率层的结构，使得原本应大角度入射到布拉格反射层结构上的光线，在经过凸透镜单元后以较为垂直的角度入射到布拉格反射层上，提高了二极管的取光效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供