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一种氮化硅瓷片界面改性方法及覆铜陶瓷基板制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010709632.0
  • IPC分类号:C04B35/584;C04B35/622;C04B37/02
  • 申请日期:
    2020-07-22
  • 申请人:
    江苏富乐德半导体科技有限公司
著录项信息
专利名称一种氮化硅瓷片界面改性方法及覆铜陶瓷基板制备方法
申请号CN202010709632.0申请日期2020-07-22
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-11-10公开/公告号CN111908924A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/584IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;5;8;4;;;C;0;4;B;3;5;/;6;2;2;;;C;0;4;B;3;7;/;0;2查看分类表>
申请人江苏富乐德半导体科技有限公司申请人地址
江苏省盐城市东台市城东新区鸿达路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏富乐德半导体科技有限公司当前权利人江苏富乐德半导体科技有限公司
发明人葛荘;贺贤汉;王斌;欧阳鹏;孙泉;张恩荣
代理机构上海申浩律师事务所代理人赵建敏
摘要
本发明涉及一种氮化硅瓷片界面改性方法及覆铜陶瓷基板制备方法,其中氮化硅瓷片界面改性方法包括如下步骤:1)改性溶液制备:将粒径为20~20000nm的α‑氮化硅粉末与分散剂加入至溶剂中搅拌均匀,得到α‑氮化硅粉末含量为0.003~0.02g/mL的改性溶液;2)改性瓷片制备:将步骤1)中的改性溶液均匀涂覆在氮化硅瓷片上并在80~220℃条件下烘干。根据上述方法改性后的氮化硅瓷片可直接用于覆铜陶瓷基板的活性钎焊,提高了氮化硅瓷片钎焊时反应活性,进行真空烧结时,能够在瓷片与金属焊片界面层形成更致密的结构,能够提高产品的剥离强度。此外,未反应的α‑氮化硅粉末能够嵌入近瓷界面层中,降低界面层的热膨胀系数,可提高瓷片与界面层在冷热冲击条件下的结合可靠性。

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