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刻蚀后的灰化方法及磁传感器的形成方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201410006870.X
  • IPC分类号:H01L21/311;H01L43/12
  • 申请日期:
    2014-01-07
  • 申请人:
    上海华虹宏力半导体制造有限公司
著录项信息
专利名称刻蚀后的灰化方法及磁传感器的形成方法
申请号CN201410006870.X申请日期2014-01-07
法律状态驳回申报国家暂无
公开/公告日2014-04-16公开/公告号CN103730351A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/311
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;1;;;H;0;1;L;4;3;/;1;2查看分类表>
申请人上海华虹宏力半导体制造有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人张振兴;奚裴;熊磊
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人骆苏华
摘要
一种刻蚀后的灰化方法及磁传感器的形成方法,所述刻蚀后的灰化方法包括:提供基底,所述基底表面具有刻蚀形成的氮化钽层,所述氮化钽层表面具有光刻胶层,所述光刻胶层作为刻蚀氮化钽层的掩膜;刻蚀完成后,对所述氮化钽层表面的光刻胶层进行灰化工艺,所述灰化工艺的灰化气体包括氧气和含氟的刻蚀气体,所述灰化工艺的温度范围小于或等于150摄氏度,所述灰化工艺的射频功率范围小于或等于500瓦。由于所述灰化气体包括氧气和含氟的刻蚀气体,从而能完全去除氮化钽层表面的光刻胶层,且可以降低灰化工艺对氮化钽层和基底所造成的损伤。

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