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一种喷印墨滴多误差补偿定位控制方法及系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010208317.X
  • IPC分类号:B41J2/075;B41J2/12
  • 申请日期:
    2020-03-23
  • 申请人:
    华中科技大学
著录项信息
专利名称一种喷印墨滴多误差补偿定位控制方法及系统
申请号CN202010208317.X申请日期2020-03-23
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2020-06-26公开/公告号CN111332020A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41J2/075
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IPC结构图谱:
IPC分类号B;4;1;J;2;/;0;7;5;;;B;4;1;J;2;/;1;2查看分类表>
申请人华中科技大学申请人地址
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华中科技大学当前权利人华中科技大学
发明人陈建魁;吕佳超;王一新;欧闻
代理机构华中科技大学专利中心代理人暂无
摘要
本发明属于喷墨打印相关技术领域,其公开了一种喷印墨滴多误差补偿定位控制方法及系统,所述方法包括以下步骤(1)进行试打印以分别获取墨滴飞行定位误差、喷头定位误差及基板定位误差;(2)正式打印前,依据得到的墨滴飞行定位误差、喷头定位误差及基板定位误差对基板运动进行前馈控制;之后进入正式打印;(3)实时检测获得正式打印中的墨滴落点定位误差,并依据得到的墨滴落点定位误差对基板运动进行在线反馈控制。本发明通过对喷印过程汇总多误差的测量与补偿,减小墨滴定位误差,因而尤其适用于高分辨率显示器、柔性电子之类的高精度工业生产和应用场合。

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