等离子体产生装置及等离子体照射方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201680088186.8
IPC分类号：H05H1/24;H05H1/26
申请日期：
2016-08-11
申请人：
株式会社富士

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著录项信息

专利名称	等离子体产生装置及等离子体照射方法
申请号	CN201680088186.8	申请日期	2016-08-11
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-04-02	公开/公告号	CN109565921A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05H1/24 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05H 等离子体技术（离子束管入H01J 27/00；磁流体发电机入H02K 44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G 2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速（原子钟入G04F 5/14；受激发射器件入H01S；通过与由分子、原子或亚原子粒子的能级所确定的基准频率相比较而进行频率调整的入H03L 7/26） H05H1/00 等离子体的产生；等离子体的处理（等离子体技术在热核聚变反应器的应用入G21B 1/00） H05H1/24 等离子体的产生〔2〕	IPC分类号	H;0;5;H;1;/;2;4;;;H;0;5;H;1;/;2;6查看分类表>
申请人	株式会社富士	申请人地址	日本爱知县知立市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社富士	当前权利人	株式会社富士
发明人	神藤高广;池户俊之
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	穆德骏;安翔

摘要

本发明的大气压等离子体产生装置(10)具有散热器(27、28)。在散热器中形成有流路，通过使冷却气体在该流路中流动而对形成有反应室的下部壳体(20)进行冷却。此时，被用于冷却的气体因下部壳体的热量而被加温。该加温后的气体被向加热气体供给装置(14)供给，并被加热器(112)加热。并且，加热后的气体流向下部罩(22)，并与等离子气体一起从下部罩(22)向被处理体喷出。由此，能够进行因放电而被加热了的下部壳体的冷却及被处理体的加热，并且能够减少气体的加热所需的能量。

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