一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法

发明专利无效专利

申请号：
CN03116501.X
IPC分类号：--
申请日期：
2003-04-18
申请人：
中国科学院上海微系统与信息技术研究所

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法
申请号	CN03116501.X	申请日期	2003-04-18
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2003-10-15	公开/公告号	CN1448737
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	申请人地址	上海市长宁区长宁路865号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	当前权利人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人	王文辉;唐衍哲;杨艺榕;吴亚明;王跃林
代理机构	上海智信专利代理有限公司	代理人	潘振甦

摘要

本发明涉及一种垂直光滑的反射微镜的制作方法，其特征在于利用硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的；具体步骤是：(1)在绝缘层上的硅上生长一层可用于硅的各向异性腐蚀的掩模；(2)在掩模上光刻出制作镜子的窗口；(3)利用步骤(2)中的光刻胶或已经光刻出镜子窗口的掩模作掩模进行硅的干法刻蚀，刻蚀出垂直、相对光滑的镜面；(4)在各向异性腐蚀液中腐蚀，而制成垂直、光滑的镜面。本发明优点在于镜面光滑，可在更小区域内制作面积是足够大镜面；无用区域小以及工艺简单，仅增加一步干法刻蚀工艺。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供