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一种钝化接触结构及其太阳能电池的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010920630.6
  • IPC分类号:H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/0216;C23C16/56;C23C16/50;C23C16/24
  • 申请日期:
    2020-09-04
  • 申请人:
    江苏杰太光电技术有限公司
著录项信息
专利名称一种钝化接触结构及其太阳能电池的制备方法
申请号CN202010920630.6申请日期2020-09-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-12-11公开/公告号CN112071954A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;6;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;3;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;0;;;C;2;3;C;1;6;/;2;4查看分类表>
申请人江苏杰太光电技术有限公司申请人地址
江苏省泰州市姜堰区姜堰经济开发区陈庄路600号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏杰太光电技术有限公司当前权利人江苏杰太光电技术有限公司
发明人杜哲仁;陆俊宇;陈嘉;季根华
代理机构北京集智东方知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
一种钝化接触结构太阳能电池的制备方法,包括如下步骤S1.对晶体硅基体进行预处理;S2.在晶体硅基体表面生长一层隧穿氧化层;S3.在PECVD工艺腔内,在隧穿氧化层表面沉积掺杂非晶硅层;S4.将晶体硅基体进行退火,使掺杂非晶硅层晶化形成掺杂多晶硅层;S5.在掺杂多晶硅层表面制备氮化硅减反层,并在另一面制备氧化铝钝化层;S6.在氧化铝钝化层表面制备氮化硅减反层;S7.在晶体硅基体正反两面通过丝网印刷的方式制备金属导电电极,以形成钝化接触结构的太阳能电池。本发明采用PECVD方法制备掺杂非晶硅层的工艺温度低,可减少由硅片弯曲带来的不良,且工艺具有单面性,绕镀轻微,可以减少后期清洗步骤;可实现原位掺杂,减少后续磷掺杂或硼掺杂工序。

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