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氧化亚铜微粒子的制造方法、氧化亚铜微粒子、和导体膜的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201480031552.7
  • IPC分类号:C01G3/02
  • 申请日期:
    2014-03-31
  • 申请人:
    日清工程株式会社
著录项信息
专利名称氧化亚铜微粒子的制造方法、氧化亚铜微粒子、和导体膜的制造方法
申请号CN201480031552.7申请日期2014-03-31
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-02-10公开/公告号CN105324337A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01G3/02IPC分类号C;0;1;G;3;/;0;2查看分类表>
申请人日清工程株式会社申请人地址
日本国东京都中央区日本桥小网町14番1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日清工程株式会社当前权利人日清工程株式会社
发明人木下晶弘;上村直仁
代理机构北京北新智诚知识产权代理有限公司代理人刘秀青
摘要
氧化亚铜微粒子的制造方法具有使用铜化合物的粉末与热等离子体火焰生成氧化亚铜微粒子的生成步骤。该热等离子体火焰来自于惰性气体。生成步骤具有使用载气体使铜化合物的粉末分散,且将铜化合物的粉末供给至热等离子体火焰中,或者使铜化合物的粉末分散于水而成为浆料,且使浆料液滴化供给至热等离子体火焰中的步骤。进一步,优选地,生成步骤更具有将冷却气体供给至热等离子体火焰的终端部的步骤。

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