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剂量监测装置和放射治疗装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910566502.3
  • IPC分类号:G01T1/02;A61N5/10
  • 申请日期:
    2019-06-27
  • 申请人:
    上海联影医疗科技有限公司
著录项信息
专利名称剂量监测装置和放射治疗装置
申请号CN201910566502.3申请日期2019-06-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-09-20公开/公告号CN110261883A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01T1/02IPC分类号G;0;1;T;1;/;0;2;;;A;6;1;N;5;/;1;0查看分类表>
申请人上海联影医疗科技有限公司申请人地址
上海市嘉定区城北路2258号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海联影医疗科技股份有限公司当前权利人上海联影医疗科技股份有限公司
发明人龚飞;刘恒劼
代理机构北京华进京联知识产权代理有限公司代理人孙岩
摘要
本申请涉及一种剂量监测装置和放射治疗装置。所述剂量监测装置包括:电离室,所述电离室限定有非封闭的腔体;温度传感器,所述温度传感器设置于所述电离室外部,用于采集所述电离室的环境温度;加热组件,所述加热组件设置于所述电离室的外部,用于调节所述电离室的环境温度和湿度;控制装置,与所述加热组件电连接,用于控制所述加热组件的至少一个参数以使得所述温度传感器测量得到的环境温度在预设阈值范围内。本申请通过设置于电离室外部的加热组件以及控制装置,便捷地调控电离室的环境温度和湿度,使得电离室可以工作在稳定的环境下,以提高设备稳定性。

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