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具有宽频段光能存储特性的亚波长光栅结构及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202210829787.7
  • IPC分类号:G02B5/00;G02B6/126;G03F7/00;B82Y20/00;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2022-07-15
  • 申请人:
    华侨大学
著录项信息
专利名称具有宽频段光能存储特性的亚波长光栅结构及其制备方法
申请号CN202210829787.7申请日期2022-07-15
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2022-08-12公开/公告号CN114895394A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/00IPC分类号G;0;2;B;5;/;0;0;;;G;0;2;B;6;/;1;2;6;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;B;8;2;Y;2;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人华侨大学申请人地址
福建省泉州市丰泽区城东城华北路269号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华侨大学当前权利人华侨大学
发明人沈少鑫;刘雯萱;曾越
代理机构厦门市首创君合专利事务所有限公司代理人连耀忠
摘要
本发明公开了一种具有宽频段光能存储特性的亚波长光栅结构及其制备方法,涉及先进光学功能超材料设计及微纳加工技术领域,该亚波长光栅结构包括从下至上依次设置的硅基底、第一铝金属薄膜层、介质隔绝层和介质光栅层,介质光栅层设有以周期宽度周期性间隔设置的脊部,相邻两个脊部之间设有沟槽,脊部的周期宽度远小于入射光的波长,介质光栅层的脊部的顶部和侧壁以及沟槽的底部覆盖有第二铝金属薄膜层,第二铝金属薄膜层具有非均匀厚度,解决现有纳米结构加工领域中难以大面积制备且流程复杂的问题,从而达到便于高质量的长程有序制备,制备产品均匀性好、多参数可调的效果,该结构具有显著的大角度宽频段光能存储及非线性谐波偏振增强特性。

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