悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板

发明专利有效专利

申请号：
CN201310335499.7
IPC分类号：C09K3/14
申请日期：
2011-11-21
申请人：
日立化成株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板
申请号	CN201310335499.7	申请日期	2011-11-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-01-08	公开/公告号	CN103497732A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K3/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K3/00 不包含在其他类目中的材料〔2〕 C09K3/14 防滑材料；研磨材料（含高分子物质的磨料或摩擦体或者成型磨料的制造入C08J 5/14）〔4〕	IPC分类号	C;0;9;K;3;/;1;4查看分类表>
申请人	日立化成株式会社	申请人地址	日本国东京都千代田区丸之内一丁目9番2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日立化成株式会社	当前权利人	日立化成株式会社
发明人	岩野友洋;成田武宪;龙崎大介
代理机构	上海市华诚律师事务所	代理人	杜娟

摘要

本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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