基板清洗方法、基板清洗系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201410639940.5
IPC分类号：B08B7/00;H01L21/02
申请日期：
2014-11-13
申请人：
东京毅力科创株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板清洗方法、基板清洗系统
申请号	CN201410639940.5	申请日期	2014-11-13
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-05-20	公开/公告号	CN104624561A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B7/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B7/00 不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法	IPC分类号	B;0;8;B;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	金子都;田内启士;折居武彦;菅野至
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇;张会华

摘要

本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。能够抑制基底膜被侵蚀并去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序和剥离处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，向表面具有亲水性的基板供给含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使该处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。

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