光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振板及显示器

发明专利有效专利

申请号：
CN201080048045.6
IPC分类号：G02B1/11;B32B7/02;G02B1/10;G02B1/12;G02B5/30;G02F1/1335
申请日期：
2010-11-15
申请人：
大日本印刷株式会社

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著录项信息

专利名称	光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振板及显示器
申请号	CN201080048045.6	申请日期	2010-11-15
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-09-12	公开/公告号	CN102667535A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/11 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层 G02B1/10 对光学元件表面涂覆或对其进行表面处理后所产生的光学涂层（G02B1/08优先）〔1，2015.01〕 G02B1/11 抗反射涂层〔6，2015.01〕	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;1;1;;;B;3;2;B;7;/;0;2;;;G;0;2;B;1;/;1;0;;;G;0;2;B;1;/;1;2;;;G;0;2;B;5;/;3;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5查看分类表>
申请人	大日本印刷株式会社	申请人地址	日本国东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大日本印刷株式会社	当前权利人	大日本印刷株式会社
发明人	林祐辅;宫之胁伸;筱原诚司;村上茂树;桥本浩二
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	张宝荣

摘要

本发明目的在于提供生产率优异，并抑制在硬涂层与硬涂层的与基材侧所邻接的层之间发生干涉纹的现象，且视觉辨认度优异的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法的特征在于包括：准备透光性基材的步；准备第一组合物和第二组合物的步骤，其中所述第一组合物含有第一树脂和第一溶剂且不含低折射率成分或即便含有低折射率成分其含量相对于第一树脂的质量为5.0质量％以下，该第一树脂组合物的粘度μ1为3mPa·s以上，所述第二组合物含有低折射率成分、第二树脂和第二溶剂，该第二组合物的粘度μ2为5mPa·s以上，并且μ2与μ1之差为30mPa·s以下；在该透光性基材的一面侧，从该透光性基材一侧开始至少使该第一组合物和第二组合物相邻接而同时涂布，制作涂膜的步骤；将上述涂膜干燥，接着进行光照射或加热，使之固化的步骤，并且在该干燥之前不进行预固化。

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