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一种微透镜阵列的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110208104.8
  • IPC分类号:G02B3/00
  • 申请日期:
    2011-07-25
  • 申请人:
    中国科学院微电子研究所
著录项信息
专利名称一种微透镜阵列的制备方法
申请号CN201110208104.8申请日期2011-07-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2011-11-23公开/公告号CN102253437A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B3/00IPC分类号G;0;2;B;3;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学院微电子研究所申请人地址
北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院微电子研究所当前权利人中国科学院微电子研究所
发明人刘键;夏洋;吴茹菲;李勇滔
代理机构北京市德权律师事务所代理人王建国
摘要
本发明涉及一种微透镜阵列的制备方法,具体涉及一种利用喷射点胶技术的微透镜阵列的制备方法。所述制备方法具体包括如下步骤:将衬底材料放置于喷射点胶设备工作台上;向所述喷射点胶设备中注入UV胶水,所述喷射点胶设备在衬底材料表面形成微型液滴阵列;将所述微型液滴阵列经紫外光照射固化,在所述衬底材料表面形成形状固定的凸点阵列;所述凸点阵列即为微透镜阵列。本发明利用喷射点胶技术制备微透镜阵列,该制备方法操作简单,周期短,效率高,制作成本低廉,更加适合大面积微透镜阵列的制备,且制得的微透镜阵列形状完整,性能良好。

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