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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

半导体装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201380047860.4
  • IPC分类号:H01L29/786;G02F1/1343;G02F1/1368;G09F9/30;H01L21/28;H01L21/283;H01L21/336;H01L21/822;H01L27/04;H01L29/423;H01L29/49
  • 申请日期:
    2013-09-02
  • 申请人:
    株式会社半导体能源研究所
著录项信息
专利名称半导体装置
申请号CN201380047860.4申请日期2013-09-02
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2015-05-13公开/公告号CN104620390A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;G;0;2;F;1;/;1;3;4;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;8;;;G;0;9;F;9;/;3;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8;3;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;2;;;H;0;1;L;2;7;/;0;4;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;9;/;4;9查看分类表>
申请人株式会社半导体能源研究所申请人地址
日本神奈川县厚木市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社半导体能源研究所当前权利人株式会社半导体能源研究所
发明人山崎舜平;三宅博之;宍户英明;小山润
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人叶晓勇;姜甜
摘要
提供开口率高且包括电荷容量得到增大的电容器的半导体装置。另外,提供耗电量低的半导体装置。包括:包括透光性半导体膜的晶体管、介电膜设置在一对电极之间的电容器、设置于透光性半导体膜上的绝缘膜、以及设置于绝缘膜上的第一透光性导电膜。该电容器包括:用作一个电极的第一透光性导电膜、用作电介质的绝缘膜、以及隔着该绝缘膜与第一透光性导电膜对置的用作另一个电极的第二透光性导电膜。第二透光性导电膜形成在与晶体管的透光性半导体膜同一表面上且是含有掺杂剂的金属氧化物膜。

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