一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202023339168.5
IPC分类号：C07F7/21
申请日期：
2020-12-31
申请人：
有研国晶辉新材料有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备
申请号	CN202023339168.5	申请日期	2020-12-31
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07F7/21 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07F 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物（含金属的卟啉入C07D 487/22；高分子化合物入C08） C07F7/00 含周期表第4或14族元素的化合物 C07F7/02 硅化合物 C07F7/21 具有至少1个含硅而不含碳的环的环状化合物〔2〕	IPC分类号	C;0;7;F;7;/;2;1查看分类表>
申请人	有研国晶辉新材料有限公司	申请人地址	河北省廊坊市三河市燕郊兴都村南有研科技集团有限公司二部变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	有研国晶辉新材料有限公司	当前权利人	有研国晶辉新材料有限公司
发明人	蒲云平;赵强;胡通;莫杰;冯晓青;纪淼;宁红锋
代理机构	北京辰权知识产权代理有限公司	代理人	金铭

摘要

本实用新型涉及一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括吸附‑萃取反应釜、第一分离罐、第二分离罐、第三分离罐和精馏塔；所述吸附‑萃取反应釜设有吸附剂入口、原料及萃取剂入口、上层清液出口、乳化混合液出口；其中上层清液出口和第二分离罐相连通，乳化混合液出口与第一分离罐相连通；第三分离罐设有混合液入口和八甲基环四硅氧烷回收出口，分别与第一分离罐和第二分离罐相连通。该设备不仅能较大限度的分离八甲基环四硅氧烷与萃取剂，也能节约反应器的静置时间，且有效的避免了金属杂质脱附现象的发生，从而获得了稳定的金属杂质去除效果，减少了后续精馏的难度，具有节省能耗的优点。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供