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多孔低介电常数材料的等离子固化方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02817856.4
  • IPC分类号:H01L21/316;H01L21/312;H01L21/3105;C01B33/12;C23C16/40;C23C16/56
  • 申请日期:
    2002-08-16
  • 申请人:
    艾克塞利斯技术公司
著录项信息
专利名称多孔低介电常数材料的等离子固化方法
申请号CN02817856.4申请日期2002-08-16
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-11-09公开/公告号CN1695235
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/316
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;0;5;;;C;0;1;B;3;3;/;1;2;;;C;2;3;C;1;6;/;4;0;;;C;2;3;C;1;6;/;5;6查看分类表>
申请人艾克塞利斯技术公司申请人地址
美国马萨诸塞州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人艾克塞利斯技术公司当前权利人艾克塞利斯技术公司
发明人R·奥巴诺;C·巴格隆;I·L·贝瑞三世;J·比勒密尔;P·德姆博斯克;O·埃斯克斯雅;Q·翰;N·斯布罗科;C·瓦尔德福理德
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人刘明海
摘要
具有改进弹性模量和膜硬度的低介电常数多孔材料。这种多孔材料的制造方法包括提供多孔介电材料和等离子固化该多孔介电材料,以生产等离子固化的多孔介电材料。该多孔介电材料的等离子固化得到具有改进模量和硬度,但介电常数较高的材料。弹性模量的改进典型地大于或约100%,和更典型地大于或约200%。膜硬度的改进典型地大于或约50%。在小于约350℃的温度下,等离子固化多孔介电材料约15至约120秒。可非必需地后等离子处理该等离子固化的多孔介电材料。与等离子固化的多孔介电材料相比,等离子固化的多孔介电材料的后等离子处理降低材料的介电常数,同时维持改进的弹性模量和膜硬度。后等离子处理的、等离子固化的多孔介电材料的介电常数为约1.1至约3.5且具有改进的弹性模量和膜硬度。

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