用于使用吸收来成像的系统和方法

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专利名称	用于使用吸收来成像的系统和方法
申请号	CN200980128849.4	申请日期	2009-07-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-06-22	公开/公告号	CN102105780A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/86 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/86 测试移动的板、片材料（G01N 21/89优先）〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;8;6查看分类表>
申请人	麻省理工学院	申请人地址	美国麻萨诸塞州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	麻省理工学院	当前权利人	麻省理工学院
发明人	D.P.哈特;F.弗里格里奥;D.M.马里尼
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	王岳;蒋骏

摘要

介质的衰减和其他光学属性被利用以测量传感器和目标表面之间的介质的厚度。此处公开的是各种介质，硬件的布置，以及被用来捕获这些厚度测量并获得各种成像背景中的目标表面的三维图像的处理技术。这包括用于为内部/凹表面以及外部/凸表面成像，以及为耳道、人齿列等等成像的这些技术的特定适配的一般技术。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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