一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200810047420.X
IPC分类号：G01B11/06;G01N21/45
申请日期：
2008-04-20
申请人：
华中科技大学

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著录项信息

专利名称	一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法
申请号	CN200810047420.X	申请日期	2008-04-20
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2008-09-10	公开/公告号	CN101261116
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B11/06 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B11/00 以采用光学方法为特征的计量设备（G01B 9/00组中包括的各式仪器本身入G01B 9/00）〔2〕 G01B11/02 用于计量长度、宽度或厚度（G01B 11/08优先） G01B11/06 用于计量厚度	IPC分类号	G;0;1;B;1;1;/;0;6;;;G;0;1;N;2;1;/;4;5查看分类表>
申请人	华中科技大学	申请人地址	湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	华中科技大学	当前权利人	华中科技大学
发明人	骆清铭;王建岗;曾绍群;肖青
代理机构	华中科技大学专利中心	代理人	曹葆青

摘要

本发明公开了一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法。将宽带光源出射的光通过干涉结构，产生干涉信号，再探测干涉信号的光谱信息，并将光谱信息进行傅立叶变换，即可得到产生干涉信号的二光路的光程差信息。在折射率已知的情况下，以同种方式在一个干涉臂中放置样品后再测一次，比较这两次光程差信息即可薄膜厚度。若折射率未知，需将薄膜旋转一个角度，进行第三次测量来计算出获得薄膜的折射率和厚度。本发明采用光学方法，对样品是无损的，分辨率为微米量级，测量范围可达到毫米量级。另外样品不要求严格贴附在样品台上，同时信息处理方法简单，对于透明或半透明薄膜可以方便实时地得到其厚度和折射率信息。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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