首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

聚合物、化学增幅负抗蚀剂组合物和图案形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110316698.4
IPC分类号：C08F220/36;C08F212/32;C08F220/30;C08F232/08;C08F212/14;G03F7/004;G03F7/00
申请日期：
2011-07-28
申请人：
信越化学工业株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	聚合物、化学增幅负抗蚀剂组合物和图案形成方法
申请号	CN201110316698.4	申请日期	2011-07-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-06-27	公开/公告号	CN102516453A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08F220/36 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08F 仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物（由低碳烃制造液态烃混合物，例如通过齐聚作用入C10G 50/00；发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P；含有碳-碳不饱和键的单体接枝聚合到纤维、丝线、纱线、织物或用这些材料制成的纤维制品入D06M 14/00）〔2〕 C08F220/00 具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个是仅以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端〔2〕 C08F220/02 具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物〔2〕 C08F220/10 酯〔2〕 C08F220/34 含氮的酯〔2〕 C08F220/36 除羧基氧外还含其他氧的〔2〕	IPC分类号	C;0;8;F;2;2;0;/;3;6;;;C;0;8;F;2;1;2;/;3;2;;;C;0;8;F;2;2;0;/;3;0;;;C;0;8;F;2;3;2;/;0;8;;;C;0;8;F;2;1;2;/;1;4;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	信越化学工业株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	信越化学工业株式会社	当前权利人	信越化学工业株式会社
发明人	增永惠一;渡边聪;田中启顺
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	李帆

摘要

提供了包含侧链上具有N，N’-双(烷氧基甲基)四氢嘧啶酮或N，N’-双(羟甲基)四氢嘧啶酮结构的重复单元的聚合物。当使用该聚合物配制化学增幅负抗蚀剂组合物并通过光刻加工时，可以形成具有改善的LER和高分辨率优点的精细抗蚀剂图案。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供