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高吸收热电堆及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010874367.1
  • IPC分类号:H01L35/32;B82Y40/00;G01J5/12;H01L35/02;H01L35/34
  • 申请日期:
    2020-08-26
  • 申请人:
    中国科学院微电子研究所
著录项信息
专利名称高吸收热电堆及其制作方法
申请号CN202010874367.1申请日期2020-08-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-11-20公开/公告号CN111969098A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L35/32IPC分类号H;0;1;L;3;5;/;3;2;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0;;;G;0;1;J;5;/;1;2;;;H;0;1;L;3;5;/;0;2;;;H;0;1;L;3;5;/;3;4查看分类表>
申请人中国科学院微电子研究所申请人地址
北京市朝阳区北土城西路3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院微电子研究所当前权利人中国科学院微电子研究所
发明人周娜;毛海央;李俊杰;高建峰;杨涛;李俊峰;王文武;陈大鹏
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人暂无
摘要
一种高吸收热电堆及其制作方法,所述热电堆包括红外吸收层;其中,所述红外吸收层包括旋涂碳材质。本发明首次将旋涂碳材质应用到热电堆作为红外吸收层材料,利用该旋涂碳材质增强红外吸收层的吸光效果,提高热电堆的红外吸收性能。

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